シリコンセンシングが提供するファンドリサービスの中でSi深掘り加工(DRIE)についてご紹介します。

ALD(Atomic Layer Deposition)の成膜サービス

【概要】
・ウエハサイズ:6インチ、8インチ
・25枚一括処理
・膜種:
  ・Al2O3 , HfO2
  ・Ta2O5 ,TiO2 , SiO2 , ZnO (準備中)
・装置:Picosun P-300B Advanced ALD

【特長】
・単原子層ずつ成膜するため、膜厚制御性に優れている。
・アスペクト比の高い構造への成膜が可能。
・ステップカバレッジが良い。
・ピンホールフリー。
・低温成膜。

【実績例】
・シリコンセンシングでは、自社PZT薄膜の保護膜として最適化を行ったALD膜を成膜することにより、高い信頼性を実現しています。



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